產(chǎn)品功能介紹：
氬離子拋光系統(tǒng)是一個(gè)用于樣品的截面制備及平面拋光的桌面型制樣設(shè)備，以便樣品在SEM及其它設(shè)備上進(jìn)行檢測分析。可利用IlionII進(jìn)行拋光加工的材料種類十分廣泛，包括由多元素組成的試樣，以及具有不同的機(jī)械硬度、尺寸和物理特性的合金、半導(dǎo)體材料、聚合物和礦物等。如焊縫截面，集成電路焊點(diǎn)，多層薄膜截面，顆粒、纖維斷面，復(fù)合材料、陶瓷、金屬及合金、巖石礦物及其他無機(jī)非金屬等各種材料的SEM、EBSD樣品。
產(chǎn)品主要技術(shù)參數(shù)：
1.離子槍: 兩個(gè)配有稀土磁鐵的三元構(gòu)造（陰極、陽極與 聚 焦極）潘寧離子槍，聚 焦 離子束設(shè)計(jì),高性能無耗材
2.拋光角度: +10° 到 -10° ，每個(gè)離子槍可獨(dú)立調(diào)節(jié)
3.離子束 能 量: 100 V 到 8.0 kV
4.離子束流密度: 10 mA/cm2 峰值
5.拋光速度: 300 μm/h（8.0 kV條件下對于硅試樣）
6.樣品裝載： Ilion樣品擋板, 裝樣簡單，再次拋光位置準(zhǔn)確，可重復(fù)使用，配合Sample Stub可直接轉(zhuǎn)至SEM中觀察
7.樣品旋轉(zhuǎn)： 0.5到6 rpm連續(xù)可調(diào)
8.束流調(diào)制： 離子束調(diào)制功能，可進(jìn)行扇形截面拋光（扇形角度為10到90度可調(diào)）和平面拋光
9.樣品觀察： 數(shù)碼變焦顯微鏡，配有PC及Digital Micrograph軟件采集圖像，通過Gatan Digital Micrograph軟件可進(jìn)行實(shí)時(shí)成像（300x–2,200x）與圖像存儲(chǔ)和分析
10.液氮冷臺：配置液氮冷臺，樣品zui低溫度可達(dá)-120°C,有效減少離子束對樣品造成的 損 傷
真空系統(tǒng)：
11.干泵系統(tǒng)：兩級隔膜泵支持80升/秒的渦輪分子泵
12.壓力： 5x10-6 托基本壓力，8.5x10-5托工作壓力
13.真空規(guī)： 冷陰極型，用于主樣品室；固體型，用于前級機(jī)械泵
14.樣品空氣鎖： Whisperlok設(shè)計(jì)，樣品更換時(shí)間<1min，無需破樣品室真空
用戶界面：
15.10 英寸觸摸屏： 操作簡單，且能夠完全程序化控制所有參數(shù)可進(jìn)行 配 方操作。
16.操作模式：自定義不同的加工參數(shù)組合，實(shí)現(xiàn)一鍵操作。
產(chǎn)品主要應(yīng)用領(lǐng)域：
EBSD樣品制備
截面樣品制備
金屬材料（合金，鍍層）
石油地質(zhì)巖石礦物
光電材料
化工高分子材料
新能源電池材料
電子半導(dǎo)體器件
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PCB電路版截面拋光SEM圖
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鍍鋅鋼板截面拋光
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Zn晶粒
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Fe晶粒
